ツイン・マイクロ4端子プローブによる表面ナノ構造体の磁気輸送現象研究
【研究分野】薄膜・表面界面物性
【研究キーワード】
表面 / 薄膜 / ナノ / 磁気伝導 / 磁気抵抗 / 電気伝導 / プローブ / STM / マイクロプローブ
【研究成果の概要】
本研究では独立駆動型のマルチプローブによる表面磁気抵抗測定装置を世界に先駆けて開発した。本システムを用いれば (i)超高真空(10-^11~10^-10Torr)、(ii)強磁場(7T)、(iii)低温(<10K)の実験条件下での磁気抵抗測定が可能であり、また設置されたツイン・プローブステージでは測定対象に応じて、STM 探針、マイクロ4端子プローブ、マルチ配置用マクロプローブを超高真空下で交換できるようになっている。
固体表面上のナノ金属薄膜の表面磁気抵抗測定に成功し、ナノスケールから原子レベルでの磁気輸送研究への新しい実験方法が確立した。
【研究代表者】
【研究分担者】 |
| 長谷川 修司 | 東京大学 | 大学院・理学系研究科 | 准教授 | (Kakenデータベース) |
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【研究協力者】 |
| 長谷川 修司 | 東京大学 | 大学院・理学系研究科 | 准教授 | (Kakenデータベース) |
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【研究種目】基盤研究(B)
【研究期間】2006 - 2008
【配分額】16,600千円 (直接経費: 15,700千円、間接経費: 900千円)