強磁性ナノ接合を用いた巨大磁気キャパシタンス効果素子の創製
【研究分野】電子デバイス・電子機器
【研究キーワード】
スピントロニクス / 磁性ナノ薄膜 / 誘電体 / 交流インピーダンス特性 / 磁性薄膜 / ナノ構造 / マイクロ・ナノデバイス / スピンエレクトロニクス / 表面・界面物性 / 誘電体物性 / 省エネルギー / 強磁性トンネル接合 / 磁気キャパシタンス効果
【研究成果の概要】
電子の電荷とスピンの2つの自由度を利用する「スピントロニクス」は、現代のエレクトロニクスを凌駕する次世代技術として期待され、近年大きな注目を集めている。本研究課題では、強磁性ナノ薄膜間に極薄絶縁層を挟んだスピントロニクス素子を作製し、磁気キャパシタンス効果を調べることを目的とした。その結果、これまでで最大の155%の磁気キャパシタンス比を観測することに成功した。これは従来値(=50%)の約3倍を示す。また、本実験結果はデバイ・フレーリッヒ模型を用いた理論計算により定量的に説明できることがわかった。本理論によると磁気キャパシタンス比は1000%を超えることから、今後更なる発展が期待できる。
【研究代表者】