Discovery Sagaサイレントキーワード俯瞰

ヌクレオシド三リン酸 / RNAポリメラーゼ / アプタマー / 光ケージドRNA / ケージド核酸 / DNAポリメラーゼ / 同位体標識 / RNA / 光脱保護

同位体修飾RNAをRNA合成酵素により合成する技術の開発を目的として研究を行った。この目的を達成するための基盤研究として種々の修飾ヌクレオシド三リン酸を化学合成し、そのRNA合成酵素による取り込み能を評価した。その結果、塩基部にニトロベンジル基を導入したヌクレオシド三リン酸はT7-RNAポリメラーゼの阻害剤となる一方で、2'水酸基にカルバモイル基を有するヌクレオシド三リン酸はRNAポリメラーゼの基質となるなど、修飾リボヌクレオチド残基を酵素的にRNAに取り込むために必要な構造的要素に関する知見を得ることができる。