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研究キーワード:東京大学における「付加反応」 に関係する研究一覧:1件
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発表日:2026年9月8日
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スピンで表面反応を制御
――水素の電子スピンの向きで表面吸着・反応確率が変化することを発見――
東京大学 生産技術研究所 福谷 克之 教授、小澤 孝拓 助教、日本原子力研究開発機構 先端基礎研究センター 植田 寛和 研究副主幹、京都工芸繊維大学 電気電子工学系 三浦 良雄 教授、大阪大学 大学院工学研究科 Wilson Agerico Diño 准教授らの研究グループは、水素原子が持つ電子スピンの向きによって、金属表面での化学反応の起こりやすさが大きく変化することを明らかにしました。研究グループは、電子スピンの向きをそろえた水素原子ビームを用い、強磁性体であるニッケル表面に水素原子を照射しました。その結果、水素原子のスピンがニッケル表面の磁化に対して垂直に向いている場合、...
キーワード:スピン偏極/原子核/宇宙科学/磁場/触媒反応/正極材料/磁気モーメント/磁性体/水素分子/生産技術/反応制御/水素吸蔵/強磁性/選択性/蓄電池/表面反応/反応速度/強磁性体/電池/スピン/金属材料/原子力/時間依存性/水素原子/二次電池/量子力学/炭化水素/付加反応
他の関係分野:数物系科学化学総合理工工学農学
東京大学 研究シーズ