前駆体溶液のXAFS分析によるミストCVDの成膜メカニズムの解明
【研究キーワード】
ミストCVD / XAFS / 電子状態
【研究成果の概要】
本研究では複数の前駆体溶液を用いてミスト源を分離すると共に、放射光XAFSなどの分光手法を用いて、薄膜・溶液中での金属イオンの状態を明らかにすることでミストCVDの成膜メカニズムを明らかにすることを目的としている。
本年度は複数のミスト源を用いた製膜とその薄膜の基礎的な評価に主眼を置いて研究を行った。特に機能性硫化物の薄膜作製においてミスト源の分離が有効に作用しており、用いる前駆体化合物の他、溶媒の選択も薄膜形成の有無を決定しているなど、ミストCVDの成膜メカニズムに関わる知見を得ることができた。
一方で、コロナ禍における半導体などの電子部品の不足から新規の薄膜作製装置の開発が遅れており、想定通りのペースで薄膜作製と評価が進んでいない。
【研究代表者】
【研究種目】基盤研究(C)
【研究期間】2021-04-01 - 2024-03-31
【配分額】4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)