ディープサブミクロン技術を想定した次世代高位合成システムに関する研究
【研究分野】計算機システム・ネットワーク
【研究キーワード】
システムLSI / 高位合成 / 動作合成 / 物理合成 / 最適化アルゴリズム / 高位設計 / 物理設計 / フロアプラン / アーキテクチャ設計 / 高位設計・物理設計同時処理 / 配線遅延 / レジスター体型機能モジュール / 配置・配線 / レジスタ一体型機能モジュール
【研究成果の概要】
システムLSI設計技術は,配線幅が90nmや65nmといったディープサブミクロン時代に突入し,その設計生産性を向上するには,システムの動作レベルからシステムLSIを自動設計することを可能とした「高位合成技術」が極めて有効である.本研究ではディープサブミクロン技術を想定した物理設計指向の高位合成アルゴリズムを提案しならびに高位合成フローを構築した.構築した高位合成フローを利用することにより,従来の設計フローに比較して,30%以上の動作速度向上を確認した.
【研究代表者】
【研究種目】若手研究(B)
【研究期間】2006 - 2008
【配分額】3,800千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 300千円)