「ドーピング」に関するサイレントキーワード「薄膜」が含まれる科研費採択研究3件

【研究名】新規窒化物半導体のインシリコデザインと材料創成・デバイス化への展開
【研究代表者】大場 史康  東京工業大学   科学技術創成研究院   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090378795/	 
【研究分担者】
赤松 寛文  九州大学  工学研究院  准教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000010776537/	
田中 功  京都大学  工学研究科  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070183861/	
平松 秀典  東京工業大学  科学技術創成研究院  准教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080598136/	

【研究名】セラミック薄膜における相化学的特異現象の解明とその誘起物性への応用
【研究代表者】水谷 惟恭  東京工業大学   大学院・理工学研究科   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060016558/	 
【研究分担者】
篠崎 和夫  東京工業大学  大学院・理工学研究科  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000196388/	
脇谷 尚樹  東京工業大学  大学院・理工学研究科  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040251623/	
木口 賢紀  東京工業大学  総合分析支援センター  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070311660/	

【研究名】熱力学的に平衡する無限寿命高温p-n接合
【研究代表者】丸山 俊夫  東京工業大学   大学院・理工学研究科   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000020114895/	 
【研究分担者】
尾山 由紀子  東京工業大学  大学院・理工学研究科  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000345373/	
河村 憲一  東京工業大学  大学院・理工学研究科  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000050270830/