「ナノ構造」に関するサイレントキーワード「表面改質」が含まれる科研費採択研究4件

【研究名】シングルイオン注入法による半導体電気的特性ゆらぎ抑制に関する研究
【研究代表者】大泊 巌  早稲田大学   理工学部   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030063720/	 
【研究分担者】
豊島 義明  株式会社東芝セミコンダクター社  マイクロエレクトロニクス研究所  主査
品田 賢宏  早稲田大学  理工学部・日本学術振興会  特別研究員  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030329099/	

【研究名】Si(111)-7×7構造自己組織化過程における不純物原子の影響
【研究代表者】大泊 巌  早稲田大学   理工学部   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030063720/	
【研究名】量子化イオン照射による半導体ナノ構造の加工と特性制御
【研究代表者】大泊 巌  早稲田大学   理工学部   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030063720/	 
【研究分担者】
原 謙一  早稲田大学  理工学部  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040298162/	
豊島 義明  東芝セミコンダクター社  マイクロエレクトロニクス研究所  主査
松川 貴  早稲田大学  理工学部  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070287986/	

【研究名】ナノ構造制御による高温ガス分離用無機分離膜の開発
【研究代表者】中尾 真一 (1994-1995)  東京大学   大学院・工学系研究科   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000155665/	 
【研究分担者】
大久保 達也  東京大学  大学院・工学系研究科  講師  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040203731/	
長本 英俊  工学院大学  工学部  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040111471/	
安斎 博  NOK(株)  研究開発部  主幹研究員
中尾 真一  東京大学  工学部  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000155665/