「ドーピング」に関するサイレントキーワード「イオン注入」が含まれる科研費採択研究2件

【研究名】イオンビームによる細胞へのドーピングと細胞機能修飾
【研究代表者】品田 賢宏  独立行政法人産業技術総合研究所   ナノエレクトロニクス研究部門   研究部門付 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030329099/	 
【研究分担者】
朝日 透  早稲田大学  先進理工学部  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080222595/	

【研究名】物質場制御による電子活性無機系材料の創製
【研究代表者】川副 博司  東京工業大学   工業材料研究所   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080087288/	 
【研究分担者】
細野 秀雄  岡崎国立共同研究機構  分子科学研究所  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030157028/	
小川 恵一  横浜市立大学  大学院・総合理学研究科  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000233411/	
鯉沼 秀臣  東京工業大学  工業材料研究所  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070011187/	
鈴木 謙爾  東北大学  金属材料研究所  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000010005861/	
山中 昭司  広島大学  工学部  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090081314/