「エピタキシャル成長」に関するサイレントキーワード「酸化物」が含まれる科研費採択研究3件

【研究名】「超高圧技術×薄膜技術」による新物質創製
【研究代表者】一杉 太郎  東京工業大学   物質理工学院   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090372416/	
【研究名】超高品質ヘテロエピタキシャル技術による革新的高効率スピン流制御
【研究代表者】大矢 忍  東京大学   大学院工学系研究科(工学部)   准教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000020401143/	
【研究名】一軸圧縮下での表面ナノ修飾基板上固相結晶化による特異な酸化物構造誘起と超機能創出
【研究代表者】吉本 護  東京工業大学   総合理工学研究科(研究院)   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000020174998/	 
【研究分担者】
淀 徳男  大阪工業大学  工学部  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070288752/	
【研究連携者】     
松田 晃史  東京工業大学  大学院総合理工学研究科  講師  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080621698/