「エピタキシャル成長」に関するサイレントキーワード「シリコン」が含まれる科研費採択研究8件

【研究名】次世代シリコンデバイス機能創出のためのドーパントの多様化
【研究代表者】三木 一司  国立研究開発法人物質・材料研究機構   高分子材料ユニット   グループリーダー 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030354335/	 
【研究分担者】
深津 晋  東京大学  総合文化研究科  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060199164/	

【研究名】ウエーハ等価薄膜太陽電池の直接製造を可能とするメゾプラズマ次世代シーメンス法開発
【研究代表者】吉田 豊信  東京大学   大学院・工学系研究科   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000111477/	 
【研究分担者】
神原 淳  東京大学  大学院・工学系研究科  准教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080359661/	
【研究連携者】     
田中 康規  金沢大学  工学部  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090303263/	
澁田 靖  東京大学  大学院・工学系研究科  講師  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090401124/	

【研究名】電磁鋼板上の単結晶シリコン電子デバイスの開発
【研究代表者】藤岡 洋  東京大学   生産技術研究所   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000050282570/	
【研究名】超ヘテロ・ナノ結晶の創製と光-電子新機能デバイスへの応用
【研究代表者】渡辺 正裕  東京工業大学   大学院・総合理工学研究科   助教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000251637/	
【研究名】弗化物/酸化物ハイブリッド単結晶ヘテロナノ構造の創製とフォトニクス素子への応用
【研究代表者】渡辺 正裕  東京工業大学   大学院・総合理工学研究科   助教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000251637/	
【研究名】単結晶絶縁体中に形成したナノ微結晶ヘテロ構造を用いたシリコン基板上発光素子の研究
【研究代表者】渡辺 正裕  東京工業大学   大学院・総合理工学研究科・物理情報システム創造専攻   助教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000000251637/	
【研究名】STM/STSによるSi-Ge系ヘテロ構造成長過程の極微観察
【研究代表者】富取 正彦  東京工業大学   大学院・総合理工学研究科   助手 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000010188790/	 
【研究分担者】
高柳 邦夫  東京工業大学  大学院・総合理工学研究科  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080016162/	

【研究名】Siの選択ドープ横方向固相成長に関する研究
【研究代表者】石原 宏  東京工業大学   大学院総合理工学研究科   助教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060016657/	 
【研究分担者】
筒井 一生  東京工業大学  工学部  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060188589/	
佐々木 公洋  東京工業大学  大学院総合理工学研究科  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040162359/	
古川 静二郎  東京工業大学  大学院総合理工学研究科  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060016318/