「薄膜」に関するサイレントキーワード「フォノン」が含まれる科研費採択研究2件

【研究名】Cr_2O_3(0001)薄膜表面の構造と水素の吸着・拡散
【研究代表者】WILDE Markus  東京大学   生産技術研究所   助手 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000010301136/	
【研究名】薄膜―固体界面のエネルギー輸送特性の解明
【研究代表者】井上 剛良  東京工業大学   大学院・理工学研究科   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000020193592/	 
【研究分担者】
鈴木 祐二  東京工業大学  大学院・理工学研究科  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000020242274/	
中別府 修  東京工業大学  大学院・理工学研究科  助教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000050227873/