「ドーピング」に関するサイレントキーワード「窒化物半導体」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】新規窒化物半導体のインシリコデザインと材料創成・デバイス化への展開
【研究代表者】大場 史康  東京工業大学   科学技術創成研究院   教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090378795/	 
【研究分担者】
赤松 寛文  九州大学  工学研究院  准教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000010776537/	
田中 功  京都大学  工学研究科  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070183861/	
平松 秀典  東京工業大学  科学技術創成研究院  准教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080598136/