「エピタキシャル成長」に関するサイレントキーワード「NiO膜」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】超GHz帯域用伝導ノイズ抑制体の創成
【研究代表者】松下 伸広  東京工業大学   応用セラミックス研究所   准教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000090229469/