「エピタキシャル成長」に関するサイレントキーワード「レーザーアニール」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】次世代シリコンデバイス機能創出のためのドーパントの多様化
【研究代表者】三木 一司  国立研究開発法人物質・材料研究機構   高分子材料ユニット   グループリーダー 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000030354335/	 
【研究分担者】
深津 晋  東京大学  総合文化研究科  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060199164/