「エピタキシャル成長」に関するサイレントキーワード「Si(シリコン)」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】STM/STSによるSi-Ge系ヘテロ構造成長過程の極微観察
【研究代表者】富取 正彦  東京工業大学   大学院・総合理工学研究科   助手 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000010188790/	 
【研究分担者】
高柳 邦夫  東京工業大学  大学院・総合理工学研究科  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080016162/