「エピタキシャル成長」に関するサイレントキーワード「非晶質シリコン」が含まれる科研費採択研究1件

【研究名】Siの選択ドープ横方向固相成長に関する研究
【研究代表者】石原 宏  東京工業大学   大学院総合理工学研究科   助教授 	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060016657/	 
【研究分担者】
筒井 一生  東京工業大学  工学部  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060188589/	
佐々木 公洋  東京工業大学  大学院総合理工学研究科  助手  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000040162359/	
古川 静二郎  東京工業大学  大学院総合理工学研究科  教授  	https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000060016318/